高纯金及合金是制造半导体芯片的关键基础材料。主要产品牌号有:高纯金Au01、纯金Au1、金锗AuGe2-12、金锗镍AuGe11.5Ni1-5、金铍AuBe1-2.5、金镓AuGa1、金锡AuSn20、AuSn80、金硅AuSi3等;高纯金及合金通常加工成规则颗粒(块、丝段、片)及不规则颗粒等规格(俗称蒸发源),或加工成圆形或方型溅射靶材(俗称靶材),使用真空蒸发或磁控溅射工艺沉积在半导体芯片如GaAs、GaP、GaN等表面,形成欧姆接触膜、电极和连线膜,如Ni/Au、Pt/Au、Cr/Au、Ni/Cr/Au、Ni/Pt/Au、Au/AuBe、Au/AuGeNi等多种金属化膜系统。大量应用于制造发光二极管(LED),军用和民用微波通信器件,航天、航空等重要领域用半导体化合物(GaAs等)芯片太阳能电池等。
化学成分
序号 |
合金牌号 |
主成分 |
Au |
Ge |
Ni |
Ga |
Be |
Sn |
1 |
Au1 |
≥99.99 |
|
|
|
|
|
2 |
Au01 |
≥99.999 |
—— |
—— |
—— |
|
|
3 |
Au98Ge |
98±0.3 |
余量 |
—— |
—— |
|
|
4 |
Au88Ge |
88±0.5 |
余量 |
—— |
—— |
|
|
5 |
Au86.5GeNi |
86.5±0.5 |
余量 |
2±0.3 |
—— |
|
|
6 |
Au86GeNi |
86±0.5 |
余量 |
3±0.3 |
—— |
|
|
7 |
Au84GeNi |
84±0.5 |
余量 |
4±0.4 |
|
|
|
8 |
Au83.5GeNi |
83.5±0.5 |
余量 |
5±0.4 |
|
|
|
9 |
Au99Be |
余量 |
—— |
—— |
—— |
1±0.1 |
|
10 |
Au99Ga |
余量 |
—— |
—— |
1±0.1 |
|
|
11 |
Au80Sn |
80±0.5 |
|
|
|
|
余量 |
注1:经供需双方协商,可供其它成分的产品。 |
外形尺寸(mm)
合金牌号 |
形状 |
规格 |
允许偏差 |
Au1 |
线材 |
直径0.25~3.0 |
±0.05 |
Au01 |
线材 |
直径1.0~3.0 |
±0.1 |
Au01 |
片材 |
厚度0.2~0.5 |
±0.1 |
Au99Ga |
线材 |
直径0.3~1.0 |
±0.02 |
AuGe、AuGeNi |
片材 |
厚度0.2~0.5 |
±0.1 |
Au99Be |
不规则颗粒 |
颗粒单个重量为0.05g~1.5g |
—— |
Au1、Au01 |
规则颗粒 |
¢2×5、¢3×4、¢3×6、≠2×10×10、 |
—— |
AuGe2 |
规则颗粒 |
≠0.6×6×6 |
|
AuGe2、Au80Sn AuGe12、AuGe11-12Ni1-5、Au99Be |
规则颗粒 |
¢4×4、¢4×6 |
—— |
注1:经供需双方协商,可供其它规格和允许偏差的产品。 |
|