本公司是国内最早从事贵金属材料研发、生产与销售的单位，在传统的贵金属靶材的原料粉末制备、靶材加工及残靶回收方面具有数十年丰富的经验。近年来，随着靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等产业的发展，公司加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度，通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺, 并采用严格的质量控制过程，我们能够制备多种靶材并能批量供货。
铱溅射靶材 (Ir)
规格：
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形状 |
圆形、方形 |
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尺寸 |
Φ50~170mm |
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厚度 |
3~15mm |
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纯度 |
≥3N5 |
注：其它尺寸可根据客户要求制作。
铑溅射靶材 (Rh)
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形状 |
圆形、方形 |
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尺寸 |
Φ50~170mm |
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厚度 |
3~15mm |
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纯度 |
≥3N5 |
注：其它尺寸可根据客户要求制作。
银溅射靶材 (Ag)
规格：
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形状 |
圆形、方形 |
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尺寸 |
按客户要求 |
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厚度 |
按客户要求 |
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纯度 |
≥4N |
铂溅射靶材 (Pt)
规格：
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形状 |
圆形、方形 |
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尺寸 |
按客户要求 |
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厚度 |
按客户要求 |
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纯度 |
≥3N5 |
钯溅射靶材 (Pd)
规格：
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形状 |
圆形、方形 |
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尺寸 |
按客户要求 |
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厚度 |
按客户要求 |
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纯度 |
≥3N5 |
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